射頻13.56Mhz和中頻40Khz核心區別在于，13.56MHz射頻提供的是精密、均勻、低損傷的“精細清洗"，而40kHz中頻提供的是強力、高效的“物理轟擊"。

兩者的本質區別，源于不同頻率下等離子體的特性也不同

中頻 (40kHz) ：

物理轟擊為主。離子能量高，但密度低;自偏壓約。轟擊力強，可粗效去除氧化層、膠渣，但對表面損傷大，易產生高溫。大面積PCB板除膠渣、汽車零部件清洗、金

屬表面去毛刺等可選擇40KHz清洗機。

射頻 (13.56MHz)：

物理+化學協同作用。離子能量適中，但密度高;自偏壓約。各向同性好，均勻性優異，料損傷小，處理溫度低。半導體晶圓清洗、MEMS器件制造、光學鏡片鍍膜前處理、失效分析。

針對不同實驗的選型建議

1. 處理重污染或去除材料：如果你的目的是去除較厚的氧化層、光刻膠殘渣、金屬毛刺或進行表面粗化，中頻的強力物理轟擊效率更高。

對材料表面損傷不敏感：如果處理的材料較硬，或允許一定程度的表面微觀損傷，中頻是性價比更高的選擇。

2. 處理精密或熱敏/靜電敏感器件：射頻的低自偏壓和低處理溫度，適合清洗半導體芯片、MEMS傳感器、生物芯片、光學元件等，能最大限度避免電子損傷和熱損傷。

需要納米級潔凈度和均勻性：如果你要進行的是亞微米級顆粒的去除，或需要表面處理效果高度均勻，射頻的高密度等離子體和均勻的輝光是必然選擇。

需要同時進行物理清洗和化學反應：射頻能很好地平衡物理轟擊和化學活性（如使用氧氣產生自由基去除有機物），適用范圍廣。